В Китае проходят испытания первой отечественной установки для EUV-литографии. В отличие от ASML, китайская машина использует технологию LDP вместо LPP. Испытания проводятся на заводе Huawei в Дунгуане.

Пробное производство чипов с использованием новой установки планируется начать в третьем квартале 2025 года, а массовое – в 2026 году.

Это важный шаг для Китая на пути к независимости в производстве полупроводников и снижению зависимости от ASML в условиях ограничений на экспорт со стороны США.


#Китай #EUV #литография #полупроводники #Huawei

@cont_ws