Forwarded from IOI #Техноканал
### Российский литографический лазер для полупроводников будет готов не раньше 2026 года. После этого Россия станет третьей страной, производящей такие установки, наряду с Японией и США.
ГК «Лассард» уже создала два прототипа лазера. Они будут испытаны в следующем году. Цель — наладить массовое производство к 2026 году. Установка позволит производить чипы с технологическими нормами 350 нм с последующим переходом на 130 нм.
#литография #лазер #полупроводники #Россия #технологии
@techfuturex
ГК «Лассард» уже создала два прототипа лазера. Они будут испытаны в следующем году. Цель — наладить массовое производство к 2026 году. Установка позволит производить чипы с технологическими нормами 350 нм с последующим переходом на 130 нм.
#литография #лазер #полупроводники #Россия #технологии
@techfuturex